量子器件中心(SQDL)是上?？萍即髮W(xué)建設(shè)的面向全校、科研院所乃至全社會(huì)開(kāi)放的大型儀器共享科研平臺(tái)，也是學(xué)校開(kāi)展半導(dǎo)體器件工藝及其交叉學(xué)科研究的重要?jiǎng)?chuàng)新平臺(tái)。SQDL將緊緊圍繞學(xué)校學(xué)科發(fā)展和人才培養(yǎng)目標(biāo)，以建設(shè)國(guó)內(nèi)一流微納加工平臺(tái)，在相關(guān)微納芯片領(lǐng)域形成自主核心知識(shí)產(chǎn)權(quán)和打造優(yōu)秀技術(shù)團(tuán)隊(duì)為目標(biāo)，為我國(guó)相關(guān)學(xué)科前沿和前瞻技術(shù)發(fā)展以及人才培養(yǎng)做出積極貢獻(xiàn)。

因工作需要，現(xiàn)招聘光刻工藝工程師2名;本崗位匯報(bào)對(duì)象為平臺(tái)負(fù)責(zé)人。

崗位名稱： 光刻工藝工程師

崗位人數(shù)：1

崗位職責(zé)：

1、負(fù)責(zé)本中心實(shí)驗(yàn)室內(nèi)光刻儀器設(shè)備的規(guī)范化管理，完成校級(jí)設(shè)備共享平臺(tái)設(shè)置與用戶預(yù)約、計(jì)費(fèi)管理;

2、編制設(shè)備操作手冊(cè)，不斷完善優(yōu)化和提升工藝及其流程，并完成實(shí)驗(yàn)室承接項(xiàng)目中光刻工藝開(kāi)發(fā)與研究?jī)?nèi)容;

3、日常維護(hù)光刻設(shè)備工藝條件，確保用戶和平臺(tái)器件順利流片;

4、對(duì)校內(nèi)外用戶開(kāi)展光刻工藝操作培訓(xùn)，協(xié)助校微納器件制造實(shí)驗(yàn)課程的制定和開(kāi)設(shè);

5、采購(gòu)和管理相關(guān)設(shè)備工藝相關(guān)的必備耗材、工具及配件、氣體等;

6、完成領(lǐng)導(dǎo)交辦的其他工作。

招聘條件：

1.學(xué)歷要求：微電子、化學(xué)、材料或者物理等相關(guān)專業(yè)碩士及以上學(xué)歷(特別優(yōu)秀者可放寬至本科學(xué)歷)，熟悉微電子/光電子/MEMS器件的基本工作原理、測(cè)試和工藝流程。

2.工作經(jīng)驗(yàn)：2年以上相關(guān)技術(shù)工作經(jīng)驗(yàn)優(yōu)先，EBL和步進(jìn)式光刻工藝開(kāi)發(fā)或設(shè)備維護(hù)經(jīng)驗(yàn)優(yōu)先等(具有在校同等研究經(jīng)驗(yàn)?zāi)晗?、特別優(yōu)秀者可放寬至應(yīng)屆生)。

3.基本技能和素質(zhì)：

(1)認(rèn)同上?？萍即髮W(xué)的辦學(xué)理念，具有良好的思想素養(yǎng)和道德品質(zhì);

(2)具有開(kāi)發(fā)前瞻性器件光刻工藝的能力以及較好的數(shù)據(jù)分析和報(bào)告寫(xiě)作能力;

(3)有基本的英文交流能力，能夠查閱英文文獻(xiàn);

(4)有上進(jìn)心和責(zé)任心，服務(wù)意識(shí)和團(tuán)隊(duì)意識(shí)強(qiáng)，善于溝通協(xié)調(diào);

(5)具備較強(qiáng)的問(wèn)題解決能力和應(yīng)變能力;

(6)具備較強(qiáng)的學(xué)習(xí)能力和適應(yīng)能力。

工作條件與工資待遇

按照上?？萍即髮W(xué)相關(guān)規(guī)定執(zhí)行，根據(jù)個(gè)人具體情況，提供具有競(jìng)爭(zhēng)力的薪酬、津貼和福利。

應(yīng)聘方式

請(qǐng)應(yīng)聘者填寫(xiě)完整的應(yīng)聘材料，通過(guò)上?？萍即髮W(xué)人才招聘系統(tǒng)提交應(yīng)聘申請(qǐng)，不接受現(xiàn)場(chǎng)應(yīng)聘。

應(yīng)聘崗位：https://join.shanghaitech.edu.cn/rsfw/sys/zpglxt/login/index.do